温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种负型纳米压印方法，由以下步骤所构成：（１）首先在硅基底蒸镀金属膜层Ｉ，并在金属膜层Ｉ上旋涂光刻胶；（２）然后在加热加压条件下将模板的纳米图案复制于光刻胶；（３）用反应离子刻蚀技术将图案转移至镀金属膜层Ｉ；（４）以光刻胶的图形为掩膜通过湿...
该专利属于国家纳米技术产业化基地所有，仅供学习研究参考，未经过国家纳米技术产业化基地授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。