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无应力浅沟渠隔离结构的形成方法技术
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文档序号:3194300
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一种形成无应力浅沟渠隔离(shallow trench isolation,STI)结构的方法,于浅沟渠隔离结构的沟渠表面沉积一非晶硅层,并以高温氧化的方式将非晶硅层氧化为二氧化硅层,以作为沟渠的衬底氧化层。此种衬底氧化层整体的厚度皆会...
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