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一种光刻装置包括：构造为使辐射束达到要求的和用来将残骸粒子从辐射源所发出的辐射中过滤出去的过滤系统，其中该过滤系统包括多个用来捕获残骸粒子的薄片，其中多个薄片中的至少一个薄片包括至少两个部分，这两个部分具有相互不同的取向，并且沿着基本上直的...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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