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用于在衬底上对抗蚀剂层进行光刻制图的具有第一区域（５０、５２、５４、５６）以及第二和第三区域（６０、６２、６４、６６、７０、７２、７４、７６）的光刻掩模，在第一区域中光刻掩模（１４）具有不透明层，第二和第三区域在光刻掩模的光学厚度方面不同且...
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