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一种再分布的引线框,其形成借助于对导电基底实施顺序的金属去除工艺,它应用于半导体器件(28)的模塑封装(38)。工艺中包括步骤:(a)对导电基底(10)的第一侧面作出构图,形成由各个沟道(16)隔离开的焊区(14)阵列;(b)将第一模塑复合...该专利属于宇芯(毛里求斯)控股有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过宇芯(毛里求斯)控股有限公司授权不得商用。
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一种再分布的引线框,其形成借助于对导电基底实施顺序的金属去除工艺,它应用于半导体器件(28)的模塑封装(38)。工艺中包括步骤:(a)对导电基底(10)的第一侧面作出构图,形成由各个沟道(16)隔离开的焊区(14)阵列;(b)将第一模塑复合...