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本发明的目的是提供一种通过方向性高的照明光可高效进行无掩模曝光的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置，同时，提供一种可使阻焊膜的曝光效率提高的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置。设有出射波长为４０５ｎｍ的激光（１ａ）的蓝紫半导体激光器（１２Ａ）和出射...
该专利属于日立比亚机械股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过日立比亚机械股份有限公司授权不得商用。

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