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一种研磨布及其加工方法及使用该研磨布的基板的制造方法，该研磨布用以研磨半导体基板，其特征为，该布表面至少形成具有放射状图案的沟，该沟位于基板正下方部位的沟体积总和的平均值／基板面积为０．０６以上且０．２３以下，而且，该沟的形成是位于比前述基...
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