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本发明公开了一种离子注入均匀性控制系统及控制方法，涉及离子注入机，属于半导体制造领域。该系统包括移动法拉第杯、剂量积分检测器、数控扫描发生器、靶台运动和均匀性控制器和计算机，所述的移动法拉第杯输出与剂量积分检测器连接；所述的剂量积分检测器输...
该专利属于北京中科信电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京中科信电子装备有限公司授权不得商用。

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