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本发明揭示一种解决交替式相位移光掩模的相位冲突的方法及交替式相位移光掩模，特征在于使交替式相位移光掩模中在配置上遇到的相位冲突区域中的一不透光区域中具有一透光狭缝区，并使透光狭缝区与此不透光区域两旁的透光区域具有相位差，而解决相位冲突的问题...
该专利属于联华电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。

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