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本发明提供一种等离子处理系统（１００），包括具有基板支架（１３０）和电极（１２５）的处理腔（１２０）。处理系统包括压力控制系统、气体供给系和监控装置（１６０）。多频ＲＦ电源（１１０）经由具有单一可变元件的匹配电路（１１５）与电极（１２５）连...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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