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本发明公开了用于执行光学临近修正（ＯＰＣ）的方法、程序产品和系统，其中基于邻近形状对需要分段的形状的成像过程的有效影响，对掩模形状进行分段。在确定邻近形状对感兴趣的形状的分段的影响之前，对邻近形状进行平滑，其中邻近形状的平滑量随着邻近形状对...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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