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本发明的课题在于提供含有不饱和二羧酸和亚乙基脲的半导体用洗涤液组合物和洗涤方法。本发明通过提供下述组合物而解决了上述课题，即，一种组合物，其是在半导体晶片的加工工艺中为了洗涤残留物而使用的组合物，所述组合物含有不饱和二羧酸和亚乙基脲作为必须...
该专利属于日产化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日产化学工业株式会社授权不得商用。

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