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CMOS图像传感器及其制造方法技术
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文档序号:3190600
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本发明公开了一种CMOS图像传感器及其制造方法。该CMOS图像传感器包括:第一导电型半导体衬底,通过隔离区和有源区来限定,该有源区包括蓝光电二极管区和晶体管区;隔离层,形成在半导体衬底的隔离区中;第一扩散区,具有与半导体衬底相同的导电类型,...
该专利属于东部电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东部电子株式会社授权不得商用。
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