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用于外延炉外延层厚度均匀性生长的控制装置制造方法及图纸
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下载用于外延炉外延层厚度均匀性生长的控制装置的技术资料
文档序号:31893785
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本实用新型提出了一种用于外延炉外延层厚度均匀性生长的控制装置,包括外延炉本体和设置值在外延炉本体上的控制装置,所述外延炉本体上固定设置有呈方框状的安装框,所述控制装置固定设置安装框内,所述安装框内侧的左右两侧分别固定设置有第一安装组件和第二...
该专利属于无锡赛默可科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡赛默可科技有限公司授权不得商用。
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