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在直流(DC)源/漏区下面具有氧化物孔的区别性的绝缘体上硅(SOI)制造技术
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下载在直流(DC)源/漏区下面具有氧化物孔的区别性的绝缘体上硅(SOI)的技术资料
文档序号:3189256
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一种选择性绝缘体上硅(SOI)结构,该结构具有用于所有器件的体接触(区),而不包含直接地位于直流(DC)节点扩散区下面的埋置氧化物。这些节点,比如是施加电压Vdd,接地GND,参考电压Vref和其它类似设置的DC节点。本发明的选择性SOI结...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。
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