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一种等离子体处理装置具有一个腔体，腔体内容纳有至少两个处理平台，处理平台之间被隔离壁隔开，在所述的隔离壁上设有至少一个通道，该通道的宽度与长度比小于１／３。本发明使得各处理平台之间既能保持气压均衡又能使带电粒子不致互相干扰，提升了各处理平台...
该专利属于中微半导体设备(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)有限公司授权不得商用。

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