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用于角分解光谱光刻表征的方法与设备技术
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下载用于角分解光谱光刻表征的方法与设备的技术资料
文档序号:3188867
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一种通过在一高数值孔径透镜的光瞳面中测量一角分解光谱从而确定基底特性的设备与方法,所述角分解光谱是由反射离开所述基底的辐射形成的。所述特性可依角度和波长而变化,并可包括横向磁和横向电偏振光的强度及其相对相位差。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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