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具有：在源极／漏极扩散层６４上形成Ｎｉ膜６６的工序；通过进行热处理，使Ｎｉ膜６６中的下层侧的部分和源极／漏极扩散层６４中的上层侧的部分反应，在源极／漏极扩散层６４上形成Ｎｉ↓［２］Ｓｉ膜７０ｂ的第一热处理工序；有选择地蚀刻除去Ｎｉ膜６６中的...
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