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GaN系半导体装置制造方法及图纸
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文档序号:3187769
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提供一种GaN系半导体装置,其通态电阻低、反偏压的电压外加时的漏电流非常小,而且耐压特性非常优异,其结构具备:Ⅲ-Ⅴ族氮化物半导体层,其至少包含1个带隙能量不同的Ⅲ-Ⅴ族氮化物半导体的异质结结构;第一阳极电极,其以肖特基结合配置在所述Ⅲ-Ⅴ...
该专利属于古河电气工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过古河电气工业株式会社授权不得商用。
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