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本发明是有关于一种浸润式微影的方法及其光阻材料，其中此光阻材料包含聚合物、光酸产生剂以及抑制剂。聚合物与酸反应后，能溶解于碱性溶液中。光酸产生剂吸收辐射后，能分解形成酸。抑制剂能中和酸且流动性低。因此，此光阻材料能避免浸润式微影中的水纹缺陷...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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