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提供一种半导体器件及其制造方法，该半导体器件包括：硅衬底；第绝缘膜，形成于硅衬底上；第一导电塞，形成于第一绝缘膜的第一接触孔内部；具有平坦表面的底层导电膜，形成于第一导电塞上及其周围；结晶导电膜，形成于底层导电膜上；以及电容器，通过在该结晶...
该专利属于富士通微电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士通微电子株式会社授权不得商用。

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