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本发明为提供一解析方法，能容易且适当对相关于处理程式（ｒｅｃｉｐｅ）或处理单元（ｕｎｉｔ）的组合的元件制造上的测量资料进行分析。依本发明的解析方法，将例如线宽精度或重叠精度等曝光结果的特性，从各批次（ｌｏｔ）的曝光处理结果任意检出，将该特性...
该专利属于尼康股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过尼康股份有限公司授权不得商用。

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