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本发明公开了一种利用湿法腐蚀设备处理硅片的方法，该方法利用设备的搬入口或搬出口作为空片盒承载台，使设备的处理槽能同时进行更多硅片的处理，本发明的方法不需要进行任何硬件改造，就能使湿法腐蚀设备的使用效率提高了２０％。...
该专利属于上海华虹NEC电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹NEC电子有限公司授权不得商用。

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