下载接触窗的形成方法的技术资料

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一种接触窗的形成方法,首先提供衬底,衬底上已形成至少二个导体元件,且二个导体元件之间有间隙。然后,在衬底上形成第一介电层以覆盖导体元件与间隙,其中所形成的第一介电层中具有隙缝,且隙缝是形成于间隙内。接着,移除间隙内的部分第一介电层以形成一开...
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