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本发明披露了一种等离子体加工控制系统，包括：Ｖ－Ｉ探针，其用于有效检测等离子体加工室，其中该探针能够响应于射频（ＲＦ）电源（例如，约２ＭＨｚ、约２７ＭＨｚ、或者约６０ＭＨｚ）而提供电参数；处理器，其耦合至和／或包括有能够提供用于每个电参数的...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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