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武汉等离子渗氮炉有限公司
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等离子渗氮(PN)物理气相沉积(PVD)新型复合离子渗氮炉制造技术
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文档序号:31838587
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本实用新型提供了一种等离子渗氮(PN)物理气相沉积(PVD)新型复合离子渗氮炉,包括底座,所述底座的顶部靠近一侧边缘处设置有装置外壳,所述底座顶部靠近另一侧边缘处安装有冷却机。本实用新型,使用中,冷却机通过水泵使冷却机内部的冷水经过第一管、...
该专利属于武汉等离子渗氮炉有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉等离子渗氮炉有限公司授权不得商用。
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