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本发明提供一种清洗液组合物以及使用该组合物除去杂质的方法，其适于将残留在用于形成电子电路的基板及用于形成上述电子电路的制造装置的部件上的杂质除去。上述清洗液组合物包括：含有４～５０重量％的从柠檬酸、柠檬酸盐、氟化物盐、氟酸、双氧水及过硫酸铵...
该专利属于李起元所有，仅供学习研究参考，未经过李起元授权不得商用。

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