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计测方法、曝光方法以及器件制造方法技术
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文档序号:3183430
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本发明由于向配置于投影光学系统(PL)的物体面侧的遮光图案(MP↓[n])照射光,一边使配置于投影光学系统的像面侧的空间像计测装置的狭缝(29x、29y)在与投影光学系统的光轴垂直的面内移动,一边检测通过了投影光学系统及狭缝的光的光强度分布...
该专利属于株式会社尼康所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社尼康授权不得商用。
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