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具有半导体特性多阳离子氧化物通道的薄膜晶体管及制造方法技术
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下载具有半导体特性多阳离子氧化物通道的薄膜晶体管及制造方法的技术资料
文档序号:3183226
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通过如下步骤制造薄膜晶体管(TFT)(10):提供衬底(20),沉积并图案化金属栅极(30),将图案化的金属栅极阳极化以在金属栅极上形成栅极绝缘层(40),在至少部分栅极绝缘层上沉积并图案化包括多阳离子氧化物的通道层(70),以及沉积并图案...
该专利属于惠普开发有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过惠普开发有限公司授权不得商用。
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