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一种光照射装置，其用具有预定光强度分布的光照射目标平面。该装置包括：具有由原始变换矢量（ａ１，ａ２）表示的周期结构的光调制模式的光调制元件；用所述光照明所述光调制元件的照明系统；以及用于在目标平面上形成由所述光调制模式获得的所述光的所述预定...
该专利属于株式会社液晶先端技术开发中心所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社液晶先端技术开发中心授权不得商用。

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