下载利用延迟反转点技术检测充电效应的测试结构与方法的技术资料

文档序号:3182492

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一种半导体工艺测试结构,其包括栅极、电荷陷获层、以及扩散区域。此测试结构为类电容结构,其中此电荷陷获层将在不同工艺步骤中陷获电荷。接着可利用电容-电压测量以检测使否有产生Vfb偏移。若此工艺步骤产生了充电效应,则所诱发的电荷将不均匀。若在测...
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