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本发明公开了一种电子束曝光方法，包括：首先将预存于电子控制装置内的产品设计图形分区；继而对不同分区内的图形单独曝光。所述产品设计图形包括复数个目标图形和辅助图形；所述复数个目标图形和辅助图形之间无固定相对位置；对所述不同分区内的图形单独曝光...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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