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离子注入装置以及得到不均匀的离子注入能量的方法制造方法及图纸
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下载离子注入装置以及得到不均匀的离子注入能量的方法的技术资料
文档序号:3182087
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一种离子注入装置,包括产生离子束的离子束源;布置在离子束路径上的注入能量控制器用于控制离子束的离子注入能量,从而为第一时间周期产生具有第一注入能量的离子束,为第二时间周期产生具有第二注入能量的离子束;加速离子束的束道;以及安装有衬底的终端站...
该专利属于海力士半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过海力士半导体有限公司授权不得商用。
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