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本发明涉及一种对基片进行处理的方法，具有以下方法步骤：通过喷嘴单元在有待处理的基片的局部表面区域上形成液膜，其中该喷嘴单元具有至少一个纵向伸展的喷嘴装置以及与该喷嘴装置相邻布置的超声波换能器装置或者说兆赫声波换能器装置；使所述超声波转换器装...
该专利属于施蒂格哈马技术股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过施蒂格哈马技术股份公司授权不得商用。

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