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在利用独立晶舟旋转的批次喷洒工艺中提高的均匀性制造技术
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下载在利用独立晶舟旋转的批次喷洒工艺中提高的均匀性的技术资料
文档序号:3181507
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一种用于实施批次喷洒的方法,包括:提供设置在转盘上的衬底,旋转转盘以使衬底绕转盘的中心轴旋转,使衬底不依赖于转盘而独立旋转,其中衬底的旋转和转盘的旋转同时发生,以及从至少一个固定的位置将化学制品喷洒到衬底上。使衬底不依赖于转盘而独立旋转使得...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
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