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具有凹陷栅极的半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:3180579
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一种具有凹陷栅极的半导体器件,包括:具有凹陷的半导体衬底;用于栅极电极的导电图案,填充该凹陷并且具有突出高于该半导体衬底表面的延伸部分;外延半导体层,具有布置于该半导体衬底之上的上表面;以及栅极绝缘层,所述栅极绝缘层配置于该外延半导体层与该...
该专利属于海力士半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过海力士半导体有限公司授权不得商用。
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