温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种光刻装置的对准方法及系统，该方法首先移动对准掩膜图形与工件台基准板对准图形，同步对掩膜台与工件台的位置数据进行采样，并对脉冲辐射探测信号进行扩展采样，再对得到的采样值进行自适应滤波去噪处理，并对脉冲辐射激发数进行判断，然后得出...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。