下载浮置栅极与非挥发性存储器的制造方法的技术资料

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一种浮置栅极的制造方法,先提供基底,基底中已形成有隔离结构,且隔离结构的顶面高于基底顶面,继而在基底上形成掩模层,覆盖住隔离结构。之后,在基底与掩模层中形成沟槽,并在沟槽内壁形成穿隧介电层。接着,在沟槽中填入导体层,导体层的顶面低于隔离结构...
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