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本发明提供一种基片处理系统及其方法，该基片处理系统包括：设有框架开口的框架；以及被配置成耦合到所述框架并且覆盖所述框架开口的至少一部分的薄膜，所述薄膜包括薄膜开口，其中所述薄膜开口的薄膜开口面积等于或小于所述框架开口的框架开口面积；其中所述...
该专利属于德鸿半导体设备（浙江）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德鸿半导体设备（浙江）有限公司授权不得商用。

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