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本发明公开了一种超疏水导热多层膜及其制备方法，包括如下步骤：采用等离子体增强化学气相沉积技术以高纯甲烷和四氟化碳为碳源气体在单晶硅基片表面制备碳膜；采用磁控溅射技术以高纯铜为靶材在步骤中所生长的碳膜表面溅射沉积铜纳米膜；采用PECVD技术以...
该专利属于三峡大学所有，仅供学习研究参考，未经过三峡大学授权不得商用。

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