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本实用新型涉及半导体材料制造装置技术，具体涉及一种喷雾热解制备半导体薄膜的装置，包括：喷头，用于将压缩气体和盐溶液进行雾化；蠕动泵，用于将盐溶液输送至喷头；加热台，用于对放置在加热台上的基片进行加热，放置在在加热台上的基片用于接收喷头雾化的...
该专利属于山东省科学院能源研究所所有，仅供学习研究参考，未经过山东省科学院能源研究所授权不得商用。

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