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本发明提供以不降低绘制分辨率而扩大带宽的曝光装置，或不会使曝光资料演算处理复杂化而在绘制分辨率高的状态下进行曝光的曝光装置。曝光装置包括ＤＭＤ、成像光学系统以及绘制部，其中成像光学系统具有投影部，其包括将从在ＤＭＤ中的开启状态的微型反射镜反...
该专利属于株式会社ORC制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社ORC制作所授权不得商用。

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