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本发明公开了一种气体注射装置，用于向反应腔室供工艺气体，包括喷嘴，喷嘴的内部设有封闭空腔，封闭空腔设有进气口，封闭空腔的下部侧壁上还设有多个出气口，工艺气体依次经过进气口、封闭空腔、出气口进入反应腔室。多个出气口的方向与喷嘴的纵向轴线接近垂...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。