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本发明提高氧化层厚度检测精度的装置包括一个炉管，一个晶舟，数个晶片和放置在晶舟顶部、中部和底部的三个控片，晶片和控片均排列放置在晶舟上，位于晶舟中部和底部的控片上方还分别放置一个挡片。此外本发明还提供一种提高氧化层厚度检测精度的方法，包括将...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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