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本发明提供一种像素结构及其制作方法，该方法包括：提供基板；在基板上形成栅极与像素电极；依序在基板上形成覆盖于该基板上的介电层以及半导体层；图案化介电层以及半导体层，以在栅极上形成图案化介电层与图案化半导体层；在基板上形成导电层；利用光掩模进...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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