温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种制造集成电路的方法，该方法包括：　　　　在衬底（１２）上提供抗反射涂层（１９）；　　　　在该抗反射涂层上提供光刻胶层（１６）；　　　　图案化该光刻胶层；以及　　　　根据该光刻胶层所定义的第一特点去除该抗反射涂层（１９），该方法的特点在于...
该专利属于先进微装置公司所有，仅供学习研究参考，未经过先进微装置公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。