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提供一种蚀刻衬底上的介电层的方法。在介电层上形成光致抗蚀剂掩模。将衬底放入等离子体处理室中。向等离子体室提供含ＮＦ↓［３］的蚀刻气体。由ＮＦ↓［３］气体形成等离子体。通过光致抗蚀剂掩模，使用由ＮＦ↓［３］气体形成的等离子体蚀刻介电层。...
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