温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种碱性蚀刻溶液，其即使在传统上广泛使用的相对低的碱性浓度下仍能够提高表面粗糙度、一种使用所述溶液的碱性蚀刻方法、一种制造硅晶片的方法、和一种通过所述方法获得的表面粗糙度提高的硅晶片。根据本发明的碱性蚀刻溶液是包含溴酸盐的腐蚀性碱...
该专利属于硅电子股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过硅电子股份公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。