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用于向基片施加均匀薄液层的设备和方法技术
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文档序号:3177573
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本发明涉及一种用于向光电应用的硅电池(12)施加均匀的、尤其是磷酸层的薄液层的设备(10),其配置有:处理腔(14);液体盘(16);以及将液体转化成液雾(15)的高频超声设备(11);以及用于硅电池(12)的传送设备(13),其设置在处理...
该专利属于施密德技术系统有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过施密德技术系统有限公司授权不得商用。
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