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一种形成半导体器件的隔离层的方法包括在半导体衬底的隔离区内形成第一沟槽。在每一所述第一沟槽的侧壁上形成间隔体。在位于对应的第一沟槽之下的隔离区内形成第二沟槽。每一所述第二沟槽窄于并且深于对应的所述第一沟槽。在每一所述第二沟槽的侧壁和底面上形...
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